半導體是現(xiàn)代電子技術的支柱，支撐著無數(shù)日常依賴的設備運轉。這些介于導體與絕緣體之間的導電材料，在集成電路、晶體管及其他電子元件的制造中不可或缺。然而，由于生產(chǎn)環(huán)境要求高度無菌，且需使用維持潔凈度的特殊產(chǎn)品，半導體制造過程存在顯著的化學危害，須采取嚴格的安全措施。

半導體制造中的化學危險

半導體行業(yè)使用多種危險化學品，包括：

氫氟酸：用于硅晶片的蝕刻與清洗

硫酸：應用于清洗、濕法蝕刻及濕法剝離工藝

丙酮、異丙醇等溶劑：用于清潔與脫脂

這些化學品對工人構成嚴重威脅，可能導致嚴重灼傷、呼吸系統(tǒng)問題及潛在的長期健康損害。

化學灼傷源于皮膚組織與腐蝕性或強堿性物質的直接接觸。酸堿化合物均可造成組織損傷，其嚴重程度主要取決于接觸時長。值得注意的是，堿性物質往往比酸性物質更頑固地附著于皮膚，可能需要更長時間沖洗才能有效清除。及時采取適當處理措施對減輕組織損傷至關重要。

氟化氫尤其會造成燒傷，且傷勢可能不會立即顯現(xiàn)，若未及時沖洗，它會滲入皮膚深層造成嚴重傷害。同樣地，當任何腐蝕性物質接觸眼睛時，即使?jié)舛容^低也可能導致角膜永久性損傷或其他長期眼部健康問題。

發(fā)生化學品泄漏時，立即進行去污至關重要。這凸顯了為人員配備安全淋浴裝置和洗眼站的重要性。

安全淋浴裝置保障工人安全

隔間式安全淋浴裝置是眾多半導體工廠的熱門解決方案，因其能在傷員進行去污處理時更大限度減少化學物質向周邊區(qū)域的污染或擴散。配備ABS封閉式洗眼器的休斯隔間安全淋浴裝置，是半導體制造工廠快速去污的典范方案。該設備提供：

• 每分鐘76升的最低流量，滿足全身去污需求
• 1秒內啟動，緊急情況即時緩解
• 封閉式面盆設計的眼/面部沖洗裝置，有效阻隔外部污染物與碎屑
• 帶可選條形屏風的封閉式隔間，形成防污染區(qū)域防止環(huán)境擴散
• 玻璃鋼集水槽配格柵，使用后安全導流污染水。若現(xiàn)場排水點較遠，可選配集水槽泵型號。

本設備高度可定制，能適應多種場地需求。封閉式洗眼器可內置或外置安裝，支持獨立或同步操作。

此外，HUGHES公司還生產(chǎn)一系列采用粉末涂層不銹鋼制造的實驗室安全淋浴裝置，可有效防止腐蝕，并可選配遮羞簾。

符合EN與ANSI標準

當發(fā)生化學品飛濺或泄漏時，該安全淋浴裝置可提供每分鐘76升的持續(xù)沖洗，持續(xù)時間超過15分鐘，滿足EN與ANSI標準規(guī)定的要求。設備采用簡易手柄啟動設計，并可選配腳踏板實現(xiàn)免提操作。此外，安全設備必須安裝在10秒可達范圍內，且與潛在危險源處于同一水平面。